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  • 潔創表面處理采用化學清洗結合物理清洗的方法，將氧化前、光刻后、擴散前、蒸發電極工序中的硅片，通過清洗劑與清洗設備結合，加快化學反應速度加速溶解，提高去污效果
  • 半導體芯片清洗、石英、硅環、晶、金屬材料等。能及時去除表面雜質，避免污染物存留使表面漏電增大、造成晶體缺陷、影響器件性能和成品率。保證半導體器件高可靠性、穩定性和使用壽命。
  • 半導體表面處理過程中有機物質:如松香、蠟、脂肪、油類、樹脂、光刻膠、有機溶劑、纖維等。無機物質:如金屬、金屬離子、氧化物、氣態狀物質、無機鹽以及其它無機化合物。其他物質:如灰塵以及其他可溶性物質。
  • 無顆粒、表面雜質、液態物質、固態物質
  • 潔創表面處理可提供: 安全合格的清洗工藝、可追溯/審計跟蹤、符合行業法規、循環過濾、高效空氣凈化、消除整個生產鏈中的交叉污染
  • ?潔創表面處理的專家團隊保證全面的系統合格

    ?lQ / 0Q 是應要求交付范圍的一部分

    ?關于 PQ，潔創的專業團隊愿為您提供幫助

    ?Audit Trail和CFR 21是潔創系統的一部分
集成電路
兆聲波清洗設備：
功       能 Function description: 現有的兆聲清洗技術主要分為槽式兆聲波振板、噴淋式兆聲噴頭、貼合式兆聲清洗頭三種。槽式兆聲清洗與傳統超聲波清洗相似般將兆聲發射裝置置于水槽底部，清洗時晶圓放置在水槽中。該種方式的優點是使用方便，可對產品進行批量清洗，故此又被稱為“批量式”兆聲清洗。目前對晶圓的批量清洗、化學機械拋光、刻蝕、顯影等濕法處理多采用槽式兆聲裝置。
先進封裝/晶圓制造
封裝高效波清洗設備：
功       能 Function description: 潔創該封裝高效清洗設備應用于晶圓級封裝 雙管齊下的高效率清洗。去除晶圓、硅、封裝等半導體經過拋光后表面殘留的有機物顆粒、金屬等,以確保晶圓、硅、封裝等半導體表面的潔凈度，使之達到后道工序的品質要求。
法規依據 Regulatory basis: YS/T 25-1992、 GB/T 12965-1996、YS/T 28-1992、GB/T 1554-1995、SEMI MF17241104、GB/T12965-1996、YS/T 28-1992、GB/T1554-1995
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